磁场辅助电沉积镍-纳米碳化硅复合镀层及其性能

采用磁场辅助电沉积法在低碳钢表面上制备了纯Ni镀层和Ni–纳米SiC复合镀层。镀液组成和工艺条件为：NiSO₄·6H₂O285 g/L,NiCl₂·6H₂O28 g/L,H₃BO₃ 25 g/L，十六烷基三甲基溴化铵80 mg/L，纳米SiC(平均粒径35 nm) 0 g/L或7 g/L,pH 4.8，温度46℃，电流密度5.5 A/dm²，占空比30%，磁场强度0.2 A/m或0.4 A/m，时间30 min。对比了纯Ni镀层和Ni–纳米Si C复合镀层的组织结构、显微硬度和耐磨性，分析了磁场强度对镀层性能的影响。结果表明，在0.2 A/m磁场强度下所得Ni–纳米SiC复合镀层比相同磁场强度下制备的纯Ni镀层更均匀细致，显微硬度更高，耐磨性更强。增大磁场强度至0.4A/m时，Ni–纳米SiC复合镀层的性能进一步提升。