| BTA系列缓蚀剂对铜缓蚀作用的光电化学比较 |
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| 引用本文： | 徐群杰,周国定. BTA系列缓蚀剂对铜缓蚀作用的光电化学比较[J]. 太阳能学报, 2005, 26(5): 665-670 |
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| 作者姓名： | 徐群杰 周国定 |
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| 作者单位： | 上海电力学院能源与环境工程学院,上海,200090 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金项目(20406009)上海市青年科技启明星计划(02QF14022)上海市教委重点培育学科资助项目 |
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| 摘 要： | 采用光电化学方法将不同浓度的BTA(苯并三氮唑)及其衍生物在硼砂缓冲溶液(pH9．2)中对铜电极的缓 蚀性能及机理作了比较研究。研究发现,羧基类BTA衍生物(4CBTA、5CBTA、CBT-1)和酯类BTA衍生物(CBTME、 CBTBE,含BTA)对铜的缓蚀作用机理不同。前者对铜的作用主要是缓蚀剂在电极表面形成的膜能促使Cu2O膜不 断增厚,进而起到缓蚀作用,体现在一定浓度的缓蚀剂作用下,电位负向扫描过程中阴极光电流明显增大,缓蚀效 果可用阴极光电流的大小来评定,阴极光电流越大,缓蚀效果越好;后者对铜的作用主要是通过缓蚀剂在电极表面 形成的膜比较致密地阻止了溶液中的O2-进入到金属表面,改变了铜表面的Cu2O膜的化学计量比,体现在一定浓 度的缓蚀剂作用下,电位正向扫描过程中光响应由p型转为n型,缓蚀效果可用阳极光电流的大小来评定,阳极光 电流越大,缓蚀效果越好。
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| 关 键 词： | BTA 衍生物 铜电极 缓蚀 光电化学 |
| 文章编号： | 0254-0096(2005)05-0665-06 |
| 修稿时间： | 2004-01-19 |
PHOTOELECTROCHEMICAL COMPARATIVE STUDY OF INHIBITING ACTION OF BTA-TYPE INHIBITORS ON COPPER |
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| Xu Qunjie,Zhou Guoding. PHOTOELECTROCHEMICAL COMPARATIVE STUDY OF INHIBITING ACTION OF BTA-TYPE INHIBITORS ON COPPER[J]. Acta Energiae Solaris Sinica, 2005, 26(5): 665-670 |
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| Authors: | Xu Qunjie Zhou Guoding |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | BTA derivative copper electrode inhibition photoelectrochemistry |
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