| 电致变色热控器件透明导电层的制备与研究 |
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| 引用本文： | 王洁冰,何延春,许旻,邱家稳,吴春华,赵印中. 电致变色热控器件透明导电层的制备与研究[J]. 真空科学与技术学报, 2008, 28(Z1): 83-87 |
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| 作者姓名： | 王洁冰 何延春 许旻 邱家稳 吴春华 赵印中 |
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| 作者单位： | 中国航天科技集团五院510所,表面工程技术国家级重点实验室,兰州,730000 |
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| 摘 要： | 本文针对电致变色热控器件的透明导电层开展了ITO薄膜的制备工艺研究,对薄膜制备过程中的几个主要影响因素(溅射压强、氩/氧比例、退火温度等)进行了分析,并测试了薄膜性能,制备的ITO薄膜电阻在100 Ω～120 Ω左右,在太阳光谱范围的吸收率小于5%,可以满足电致变色器件对透明导电层的要求.
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| 关 键 词： | 电致变色器件 ITO薄膜 制备工艺 电致变色器件 热控器件 导电层 工艺研究 Fabrication Device Electrochromic Used Films Properties 吸收率 光谱范围 薄膜电阻 薄膜性能 测试 分析 退火温度 比例 压强 影响因素 |
| 文章编号： | 1672-7126(2008)增刊-083-05 |
| 修稿时间： | 2007-08-25 |
Growth and Properties of ITO Films Used in Electrochromic Device Fabrication |
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| Wang Jiebing,He Yanchun,Xu Min,Qiu Jiawen,Wu Chunhua,Zhao Yinzhong. Growth and Properties of ITO Films Used in Electrochromic Device Fabrication[J]. JOurnal of Vacuum Science and Technology, 2008, 28(Z1): 83-87 |
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| Authors: | Wang Jiebing He Yanchun Xu Min Qiu Jiawen Wu Chunhua Zhao Yinzhong |
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