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AlN薄膜的成分,相结构和氧化性能
引用本文:夏立芳,王佐诚,孙跃,马欣新,陈士芳.AlN薄膜的成分,相结构和氧化性能[J].材料研究学报,1995,9(4):361-363.
作者姓名:夏立芳  王佐诚  孙跃  马欣新  陈士芳
作者单位:哈尔滨工业大学
摘    要:用X射线光电子能谱(XPS)剥层分析方法,研究AlN薄膜在大气中加热时的氧化性能,结果表明,常温时AlN薄膜稳定;在700℃加热时,Al2O3膜开发增厚,AlN被氧化,加热温度愈高AlN被氧化得愈剧烈。

关 键 词:薄膜  氧化  靶材  气相介质  氮化铝
收稿时间:1995-08-25
修稿时间:1995-08-25

ON THE COMPOSITION, PHASE STRUCTURE AND OXIDIZED PROPERTY OF AIN FILMS
XIA Lifang,WANG Zuochen,SUN Yue,MA Xinxin,CHEN Shifang.ON THE COMPOSITION, PHASE STRUCTURE AND OXIDIZED PROPERTY OF AIN FILMS[J].Chinese Journal of Materials Research,1995,9(4):361-363.
Authors:XIA Lifang  WANG Zuochen  SUN Yue  MA Xinxin  CHEN Shifang
Affiliation:XIA Lifang,WANG Zuochen,SUN Yue,MA Xinxin,CHEN Shifang(Harbin Institute of Technology)
Abstract:The composition, phase structure and oxidized property of AIN films heated in atmosphere at different temperature have been investigated with X-ray photoelectron spectroscopy(XPS) in this paper.The results showed that about 60nm thick of Al2O3 film on the
Keywords:AIN film oxidized property thermodynamics
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