不同调制结构Ni/Al型纳米多层膜的非对称扩散及界面应力演化行为（英文）

为了研究分析室温下溅射沉积的金属异质结界面演化的尺度依赖性,制备了不同调制周期和Ni:Al调制比等特征结构的Ni/Al型金属纳米多层膜。结合X射线衍射、多光束光学应力传感器(MOSS)实时薄膜曲率测量,研究了应力演化行为,并在此基础上分析推测纳米多层膜在生长过程中的界面特性。结果表明,由于各亚层内各向异性纳米晶结构,多层膜界面具有不对称性,这是由于界面处Ni原子向Al晶格内的不对称扩散行为所致。当此类型多层膜具备最小调制周期和最低Ni:Al调制比这2个特征参量时,上述不对称扩散行为由于界面累积效应变得更为加剧。