| 磁控溅射方法制备(CoCr/Pt)20纳米多层膜及表征 |
| |
| 引用本文： | 黄阀,李宝河,杨涛,翟中海,朱逢吾.磁控溅射方法制备(CoCr/Pt)20纳米多层膜及表征[J].半导体学报,2005,26(13):65-69. |
| |
| 作者姓名： | 黄阀 李宝河 杨涛 翟中海 朱逢吾 |
| |
| 作者单位： | 北京科技大学材料物理与化学系，北京 100083;金日成综合大学物理系，平壤,朝鲜;北京科技大学材料物理与化学系，北京 100083;北京工商大学数理部，北京 100037;北京科技大学材料物理与化学系，北京 100083;北京科技大学材料物理与化学系，北京 100083;北京科技大学材料物理与化学系，北京 100083 |
| |
| 摘 要： | 采用磁控溅射方法制备了性能优良的以Pt为缓冲层的(CoCr/Pt)20纳米多层膜,研究了溅射气压对(CoCr/Pt)20纳米多层膜的微结构和磁性的影响. 结果表明，Ar溅射气压对(CoCr/Pt)20纳米多层膜的微结构、垂直磁各向异性和矫顽力有很大的影响. 所有样品的有效各向异性常数Keff＞0，具有垂直磁各向异性. X射线衍射结果显示，小角衍射峰很锐，样品有良好的周期性层状结构. 随着Ar溅射气压增加，样品垂直膜面的矫顽力增加,但样品有效磁各向异性常数减小. 原子力显微镜照片显示，随着Ar溅射气压增加，其表面平均晶粒尺寸和粗糙度均增加，这是导致多层膜的垂直矫顽力增加和有效磁各向异性常数减小的因素.
|
| 关 键 词： | 溅射气压 纳米多层膜 垂直磁各向异性 有效磁各向异性常数 |
Characterization of (CoCr/Pt)20 Namomultilayers Preparation by Magnetron Sputtring |
| |
| Hwang Pol,Li Baohe,Yang Tao,Zhai Zhonghai and Zhu Fengwu.Characterization of (CoCr/Pt)20 Namomultilayers Preparation by Magnetron Sputtring[J].Chinese Journal of Semiconductors,2005,26(13):65-69. |
| |
| Authors: | Hwang Pol Li Baohe Yang Tao Zhai Zhonghai and Zhu Fengwu |
| |
| Affiliation: | Department of Material Physics and Chemistry,University of Science and Technology Beijing,Beijing 100083,China; Department of Physics,Kim Il Sung University,Pyongyang,DPRK;Department of Material Physics and Chemistry,University of Science and Technology Beijing,Beijing 100083,China; Department of Physics and Mathematics,Beijing Technology and Business University,Beijing 100037,China;Department of Material Physics and Chemistry,University of Science and Technology Beijing,Beijing 100083,China;Department of Material Physics and Chemistry,University of Science and Technology Beijing,Beijing 100083,China;Department of Material Physics and Chemistry,University of Science and Technology Beijing,Beijing 100083,China |
| |
| Abstract: | |
| |
| Keywords: | sputtering pressure nanomultilayers perpendicular magnetic anisotropy effective magnetic anisotropy constant |
| 本文献已被 万方数据 等数据库收录！ |
| 点击此处可从《半导体学报》浏览原始摘要信息 |
|
点击此处可从《半导体学报》下载全文 |
|
