辉光放电光谱分析法在深度剖面分析中的应用及前景

简要评述了用作深度剖面分析的辉光光谱仪(GD—OES)，基于发射强度的定量技术被定义为样品单位重量的分析信号。评述了当前GD—OES技术应用于Zn和Al基金属涂层的标准化工作进展以及RF光源用于测定非导体涂层的状况。虽然测定RF光源放电参数的可能性是存在的，但相对于DC光源来说应用难度较大，并用H对发射强度的影响也较强烈，文中讨论了解决这一问题的“基体校正”技术。尽管用到一些正确的校正方法，但仍有一些现象不能解释。因此，在特殊应用进还有必要进行“基体校正”技术。尽管用到一些正确的校正方法，但仍有一些现象不能解释。因此，在特殊应用时还有必要进行。基体匹配”校正。对于薄涂层，现代化的GD—OES系统已与SIMS和AES相似可进行深度分析，超薄涂层的定量分析中要考虑H的校正。短寿命分子的发射对分析结果也有影响，文中对此也进行了讨论。