Nb-Ge超导带表面薄层铌锗原子比的X—射线荧光光谱测定

用高频悬浮熔炼法使预先配好的铌、锗混匀粉末压块合金化。取少量合金粉末用清漆调和,均匀涂于Ni—Mo—Fe基带上,作为薄膜的校正标准。采用单条带在仪器上测量。校正曲线用铌、锗的强度此对原子比绘制,为一直线。实际试样测定结果与化学分析基本一致。单次测量的相对标准偏差为0.86%。