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| 电沉积钕铁硼磁性薄膜工艺 | |
| 引用本文： | 唐娟,谭澄宇,李建梅,蔡超,李劲风.电沉积钕铁硼磁性薄膜工艺[J].电镀与涂饰,2013,32(4):1-4. |
| 作者姓名： | 唐娟 谭澄宇 李建梅 蔡超 李劲风 |
| 作者单位： | 1. 中南大学材料科学与工程学院,湖南长沙,410083 2. 上海交通大学化学化工学院,上海,200240 3. 宁夏大学化学化工学院,宁夏银川,750021 |
| 摘 要： | 采用循环伏安法在铜电极上进行了NdFeB稀土永磁薄膜电沉积的初步探索。镀液组成为:FeCl240g/L,H3BO336g/L,抗坏血酸1.2g/L,十二烷基硫酸钠0.1g/L,甘氨酸、氯化铵各30g/L(作为配位剂),NdCl38～16g/L。探讨了配位剂对该体系镀液循环伏安特性的影响,并研究了镀液中NdCl3含量和电沉积终止电位对镀层形貌和外观的影响。结果表明,镀液中加入配位剂后,Fe2+起始沉积电位负移,而Nd3+的还原电位正移。Fe元素能诱导Nd元素进行共沉积,实现在水溶液中电沉积制备稀土永磁薄膜。循环伏安沉积的终止电位和镀液中NdCl3的含量对NdFeB薄膜的形貌和外观影响较大。镀液中NdCl3为8g/L、终止电位为1.7V时,可制得Nd的质量分数高达5.69%、较光亮致密的NdFeB薄膜。 |
| 关 键 词： | 钕铁硼 永磁铁 薄膜 电沉积 循环伏安法 水溶液 配位剂 |
Electrodeposition of neodymium iron boron magnetic thin film |
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| TANG Juan , TAN Cheng-yu , LI Jian-mei , CAI Chao , LI Jin-feng.Electrodeposition of neodymium iron boron magnetic thin film[J].Electroplating & Finishing,2013,32(4):1-4. | |
| Authors: | TANG Juan TAN Cheng-yu LI Jian-mei CAI Chao LI Jin-feng |
| Affiliation: | School of Materials Science and Engineering,Central South University,Changsha 410083,China |
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| Keywords: | |
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