| 磁控溅射制备非晶态WO_3薄膜的光催化性能 |
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| 引用本文： | 黄佳木,李璐,刘园园,赵培,董思勤. 磁控溅射制备非晶态WO_3薄膜的光催化性能[J]. 化工进展, 2010, 29(10) |
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| 作者姓名： | 黄佳木 李璐 刘园园 赵培 董思勤 |
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| 基金项目： | 重庆市科委重点基金，重庆大学国家大学生创新基金 |
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| 摘 要： | 采用射频反应磁控溅射工艺在玻璃基片上沉积了非晶态WO3薄膜。通过光催化降解亚甲基蓝和罗丹明B溶液实验,研究了所制WO3薄膜的光催化活性和使用寿命。X射线衍射(XRD)分析表明:所制备的WO3薄膜为非晶态。光催化实验表明:紫外光照3h后,薄膜对亚甲基蓝和罗丹明B溶液的最大降解率分别为83.26%和72.73%。重复使用3次后,薄膜对亚甲基蓝的降解率保持在75%以上,7次使用后薄膜基本丧失光催化活性。采用去离子水超声处理30min的方法可使已失活薄膜对亚甲基蓝的降解率从20%恢复至81%。
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| 关 键 词： | WO3薄膜 光催化 非晶态 磁控溅射 |
Photocatalytic properties of amorphous WO3 thin films grown by magnetron sputtering |
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| HUANG Jiamu,LI Lu,LIU Yuanyuan,ZHAO Pei,DONG Siqin. Photocatalytic properties of amorphous WO3 thin films grown by magnetron sputtering[J]. Chemical Industry and Engineering Progress, 2010, 29(10) |
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| Authors: | HUANG Jiamu LI Lu LIU Yuanyuan ZHAO Pei DONG Siqin |
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