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基于全硅工艺的硅谐振压力传感器设计与制备
引用本文:李 亨,王淞立,赵 虎,申建武,黄嘉珊,张 龙.基于全硅工艺的硅谐振压力传感器设计与制备[J].测控技术,2022,41(9):127-132.
作者姓名:李 亨  王淞立  赵 虎  申建武  黄嘉珊  张 龙
作者单位:西安思微传感科技有限公司
摘    要:硅谐振压力传感器制备工艺包括硅-玻璃工艺和全硅工艺,采用硅-玻璃工艺时,硅材料和玻璃材料热膨胀系数存在差异,会产生热应力。为解决硅材料和玻璃材料热膨胀系数不匹配而产生的热应力,设计一种基于全硅工艺的硅谐振压力传感器。该设计采用全硅工艺制备,其中电极层和敏感膜层集成于一体,密封层实现真空键合,在消除热应力的同时可减小黏接剂带来的应力干扰。采用全硅工艺制备的硅谐振压力传感器能够克服各种应力干扰,使传感器迟滞、重复性等指标得到改善,进而提升综合精度、长期稳定性等指标。全硅工艺还可改善传感器温度系数,可提升传感器温度跟随性指标。传感器最终测试结果显示,其综合精度优于±0.01%F.S.,其余指标如温度系数、迟滞、重复性等均优于基于硅-玻璃工艺的同类产品。

关 键 词:硅谐振压力传感器  全硅  热应力  温度系数  迟滞  设计与制备

Design and Manufacture of Silicon Resonant Pressure Sensor Based on All Silicon Technology
Abstract:
Keywords:silicon resonant pressure sensor  all silicon  thermal stress  temperature coefficient  hysteresis  design and manufacture
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