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1.5—2μmMOS干法刻蚀技术
引用本文：李祥,吕军.1.5—2μmMOS干法刻蚀技术[J].微电子技术,1993,21(2):13-21,47.
作者姓名：李祥  吕军
摘    要：
关 键 词：集成电路  干法刻蚀  MOS  刻馈
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