第二十二讲 化学气相沉积(CVD)技术 |
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引用本文: | 张以忱.第二十二讲 化学气相沉积(CVD)技术[J].真空,2024(1):87-88. |
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作者姓名: | 张以忱 |
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作者单位: | 东北大学 |
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摘 要: | <正>(接2023年第6期88页)微波等离子体CVD法是制备优质金刚石薄膜的好方法。在微波CVD装置中,极高频率的微波电场将使气体放电产生等离子体。等离子体中电子的快速往复运动进一步撞击气体分子,使得气体分子分解为H*和各种活性基团。这些大量的原子氢和活性的含碳基团是用低温低压的CVD方法沉积金刚石所必需的。
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