| 常压烧结法制备ZAO靶材及其性质研究 |
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| 引用本文： | 王敏,吴波,刘海龙,黄超然,付金彪,赵春凤,吴育锋,熊远鹏,周泽友.常压烧结法制备ZAO靶材及其性质研究[J].硅酸盐通报,2013,32(4):708-713. |
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| 作者姓名： | 王敏 吴波 刘海龙 黄超然 付金彪 赵春凤 吴育锋 熊远鹏 周泽友 |
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| 作者单位： | 福州大学材料科学与工程学院,福州,350100;福州大学材料科学与工程学院,福州350100;福州博德新材料科技有限公司,福州350008 |
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| 基金项目： | 福建省高等学校新世纪优秀人才支持计划(JA10013);国家自然科学基金资助项目(50971043,51171046) |
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| 摘 要： | 铝掺杂氧化锌(ZAO)透明导电膜兼具电阻率低和透光性好的特点,在光学与光电子领域具有广阔的应用前景.本文以微米级的高纯超细ZnO和Al2O3粉体为原料,通过控制适当的素坯成型压力,烧结前增加冷等静压环节,优化烧结工艺,制备出了高致密度和低电阻率的ZAO靶材.在16 MPa的成型压力,120 MPa冷等静压,1350℃×1h的烧结工艺下,制备出了高致密度和低电阻率的ZAO靶材,其致密度达98.0％,电阻率为1.8 × 10-2 Ω·cm,接近于热等静压所制备出的ZAO靶材.利用自制靶材,通过射频磁控溅射法,进一步制备出了ZAO薄膜,透光率达到88.6％,最低电阻率达到2.1×10-3 Ω·cm.
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| 关 键 词： | 透明导电氧化物 常压烧结法 射频磁控溅射 显微组织 光电性质 |
Preparation of ZAO Ceramic Target Sintered at Ambient Pressure and Its Properties |
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| Keywords: | |
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