|
|||||
|
|
| 国外电子束、X射线、离子束用抗蚀剂发展近况 | |
| 引用本文： | 刘锡洹,查吉生.国外电子束、X射线、离子束用抗蚀剂发展近况[J].江苏化工,1986(3). |
| 作者姓名： | 刘锡洹 查吉生 |
| 作者单位： | 无锡市化工研究设计院，无锡市化工研究设计院 |
| 摘 要： | 光致抗蚀剂是进行微细图形加工、制造微电子器件和印刷线路板的一种关键化学品。微电子技术在当前新技术革命中占有特殊的重要位置,以集成电路为核心的微电子器件正不断向高集成化和高速化方向发展,因此,对微细图形加工技术的要求愈来愈高。如国外在六十年代主要生产中小规模集成电路,加工尺寸控制为几百微米,七十年代主要生产1—16K位存贮器的大规模集成电路(LSI)加工线宽已要求5微米左右, |
| 本文献已被 CNKI 等数据库收录！ | |