| 磁控溅射制备CrNx薄膜及其结构和性能研究 |
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| 引用本文： | 田俊红. 磁控溅射制备CrNx薄膜及其结构和性能研究[J]. 真空与低温, 2007, 13(3): 159-162 |
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| 作者姓名： | 田俊红 |
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| 作者单位： | 兰州交通大学,数理与软件工程学院,甘肃,兰州,730070 |
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| 摘 要： | 采用反应磁控溅射技术制备了CrNx薄膜,并研究了氮气分压对CrNx薄膜的沉积速率、结构和摩擦系数的影响.研究发现采用反应磁控溅射技术能有效地抑制靶中毒现象,薄膜的沉积速率变化仅仅是由于氩和氮对靶的溅射产率不同造成的.通过调节不同的氮分压,可将CrNx薄膜的结构在很大的范围内调控,从Cr到Cr2N,到无定形,一直到CrN多种结晶形态的变化.且制备出的CrNx薄膜晶粒细小致密,晶粒和粒径分布都很均匀,晶粒在几十纳米左右.CrN薄膜的摩擦系数在0.70左右,无定形态CrNx和Cr2N的摩擦系数相对比较小,在0.20～0.30之间;Cr薄膜与钢球和氮化硅球对磨的摩擦系数相差比较大,分别为0.55和0.72.
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| 关 键 词： | 反应磁控溅射 结构 摩擦系数 |
| 文章编号： | 1006-7086(2007)03-0159-04 |
| 修稿时间： | 2007-05-08 |
THE STRUCTURAL AND MECHANICAL PROPERTIES OF CrNx THIN FILMS PREPARED BY REACTIVE MAGNETRON SPUTTERING |
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| TIAN Jun-hong. THE STRUCTURAL AND MECHANICAL PROPERTIES OF CrNx THIN FILMS PREPARED BY REACTIVE MAGNETRON SPUTTERING[J]. Vacuum and Cryogenics, 2007, 13(3): 159-162 |
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| Authors: | TIAN Jun-hong |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | CrNx |
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