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| 制作网印模版的湿法直接概念及其应用 | |
| 引用本文： | Hank Kasmier,苏世敏.制作网印模版的湿法直接概念及其应用[J].微纳电子技术,1983(5). |
| 作者姓名： | Hank Kasmier 苏世敏 |
| 摘 要： | <正> 一、光刻网印模版系统 1.间接或转印光刻模版: 明胶或合成聚脂胶预涂敷到纸或塑料片上,使用前要进行预敏化或敏化处理。使用者将感光膜片固定在真空框架或类似装置上进行曝光,化学固化后,所有未曝光的胶都可用水洗掉并贴到网子上。干燥后再将纸或塑料片揭下来。这样就制成了网印模版。如果制法得当,那末制出的模版具有很好的弹性 |
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