| 直接光CVD类金刚石碳膜的初期成膜结构 |
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| 引用本文： | 杜开瑛,石瑞英,谢茂浓,廖伟,张敏.直接光CVD类金刚石碳膜的初期成膜结构[J].半导体光电,1999,20(6):405-408. |
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| 作者姓名： | 杜开瑛 石瑞英 谢茂浓 廖伟 张敏 |
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| 作者单位： | 四川大学,物理系,成都,610064 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金;69676007; |
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| 摘 要： | 以微波激励氙（Ｘｅ） 发射的真空紫外光（ＶＵＶ） 作光源，乙炔（Ｃ２Ｈ２） 作反应气体，采用直接光化学汽相淀积（ＣＶＤ） 工艺，在硅（Ｓｉ） 、钼（ Ｍｏ） 及玻璃衬底上，１２０ ℃的低温下进行了类金刚石碳（ＤＬＣ） 膜的试生长。用Ｘ 射线光电子能谱（ＸＰＳ） 、扫描电子显微镜（ＳＥＭ） 等手段进行了初期成膜结构的测试分析。测试结果表明，在所有三种衬底上均能淀积生成ＤＬＣ 膜。其中Ｃ１ｓ 态原子的含量在６９ ．９８ ％ ～７４ ．６０ ％ 之间，相应的键合能为２８５ ．０ ～２８５ ．６ ｅＶ。淀积膜是以ＳＰ２ 键结构为主的ＤＬＣ膜。实验结果也表明，氧在成膜过程中是影响最大的因素。
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| 关 键 词： | 类金刚石膜 光化学汽相淀积 X射线光电子能谱 扫描电子显微镜 |
The structure of initial DLC films prepared by direct photo chemical vapor deposition technique |
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| DU Kai-ying,SHI Rui-ying,XIE Mao-nong,LIAO Wei,ZHANG Min.The structure of initial DLC films prepared by direct photo chemical vapor deposition technique[J].Semiconductor Optoelectronics,1999,20(6):405-408. |
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| Authors: | DU Kai-ying SHI Rui-ying XIE Mao-nong LIAO Wei ZHANG Min |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | DLC films photo chemical vapor deposition X-ray photoelectron spectroscope scanning electron microscope |
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