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| 真空物理气相离子沉积超硬薄膜技术及动向(下) | |
| 引用本文： | 黄锡森.真空物理气相离子沉积超硬薄膜技术及动向(下)[J].中国制造业信息化,1990(3). |
| 作者姓名： | 黄锡森 |
| 作者单位： | 南京机械专科学校 |
| 摘 要： | 四、高真空电弧放电型离子镀高真空电弧放电型离子镀是在ARE法的基础上发展起来的。它如图13那样在E型枪蒸发源附近装备了电离电极和热电子发射电极。当电子束使蒸发材料蒸发后,由于电离电极的存在,在蒸发材料本身的蒸汽压及高温蒸发源发射的热电子作用下,产生弧光放电。因为它不需使用任何放电气体(如常用的氩),所以这种放电可以在高真空下实现。同时当蒸发材料迁移时,在靠近蒸发源处便即电离,所以蒸发材料的离子化率非常 |
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