| 基片温度对Fe-N化合物薄膜制备及磁性能的影响 |
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| 引用本文： | 郭治天,韩奎. 基片温度对Fe-N化合物薄膜制备及磁性能的影响[J]. 电工材料, 2004, 0(1): 24-27 |
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| 作者姓名： | 郭治天 韩奎 |
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| 作者单位： | 中国矿业大学理学院,江苏,徐州,221008;中国矿业大学理学院,江苏,徐州,221008 |
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| 摘 要： | 用X射线衍射仪和振动样品磁强计研究了双离子束溅射法制备的Fe—N薄膜的相组成和磁性能。结果表明，基片温度对不同基片上制得的薄膜的结构和磁性能有显著影响。基片温度为250℃和300℃时，在(111)硅片基片上制得无晶粒择优取向的单—γ″—Fe4N相；基片温度为160℃时，可在玻璃基片上制得具有(100)面晶粒取向的单一γ′—Fe4N相薄膜。薄膜磁性测量表明，与无晶粒择优取向的γ′—Fe4N相比较，具有(100)面晶粒取向的γ′—Fe4N相的矫顽力较低，易达到磁饱和，但二者的饱和磁化强度基本一致。
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| 关 键 词： | 基片温度 Fe-N薄膜 晶粒取向 磁性能 |
| 文章编号： | 1671-8887(2004)01-0024-04 |
| 修稿时间： | 2003-11-01 |
The Effects of Substrate Temperature on the Formation and Magnetic Properties of Fe- N Compound Thin Films |
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| GUO Zhi_tian,HAN Kui. The Effects of Substrate Temperature on the Formation and Magnetic Properties of Fe- N Compound Thin Films[J]. Electrical Engineering Materials, 2004, 0(1): 24-27 |
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| Authors: | GUO Zhi_tian HAN Kui |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | Substrate temperature Fe-N thin films crystal orientation magnetic properties |
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