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| 铜电解沉积过程中阴极过电位影响因素研究进展 | |
| 摘 要： | 铜电解沉积过程中,阴极过电位大小决定了铜结晶的粗细程度,高电流密度下提高高纯阴极铜产率,加强阴极过电位的控制非常关键。通过在铜电解过程中阴极过电位控制方面的研究工作,讨论了几种影响阴极过电位因素。以提高高纯阴极铜产率为目标,分析了电流密度、添加剂、阳极质量及电解液温度等因素对阴极过电位的作用机理,并讨论了各因素的影响规律。 |
Progress in Factors Study Affecting Deposition Overpotential During Copper Electrolysis |
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