新型MPCVD沉积模式制备高均匀性的D100 mm金刚石薄膜 |
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作者姓名: | 张帅 安康 杨志亮 邵思武 陈良贤 魏俊俊 刘金龙 郑宇亭 李成明 |
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作者单位: | 1. 北京科技大学新材料技术研究院;2. 北京科技大学顺德研究生院 |
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基金项目: | 国家自然科学基金(52102034);;中央高校基本科研业务费(FRF-MP-20-48); |
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摘 要: | 频率为2.45 GHz的微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)装置能够沉积直径超过60 mm的金刚石薄膜,但由于MPCVD技术中等离子体的半球形分布特点,很难保证沉积出均匀性好的大尺寸薄膜,调整等离子体分布可以在一定程度上解决这一问题。基于数值模拟的研究发现,衬底边缘悬空产生的间隙能够形成空心阴极放电,提高边缘薄膜的沉积率,优化均匀性。检测结果表明,D100 mm金刚石薄膜上80个点的厚度方差值从4.5×10-4降低到5.0×10-5,证明薄膜的均匀性得到提高。金刚石薄膜表面热应力分布更均匀,厚度极值差从70μm降低到30μm,从而降低了薄膜在研磨抛光中产生裂纹的可能性。在较低的沉积压力下,薄膜生长的均匀性和质量均有提升,极值差只有10μm。
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关 键 词: | 数值模拟 MPCVD 均匀性 边缘弱空心阴极效应 金刚石膜 |
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