| 沉积参数对CVD的TiN涂层性能影响 |
| |
| 引用本文： | 陈二保,郭万华. 沉积参数对CVD的TiN涂层性能影响[J]. 安徽工业大学学报, 1987, 0(4) |
| |
| 作者姓名： | 陈二保 郭万华 |
| |
| 作者单位： | 华东冶金学院冶金工程系，华东冶金学院化学工程系 |
| |
| 摘 要： | CVD TiN 涂层硬度随沉积温度和气体总流量的增加而增加。沉积温度高于1323K,Cr12M_0V 基体表面生成的是 Ti(C,N)复合涂层。其硬度和粘附性能均高于 TiN 涂层,最高维氏硬度达到3363kg/mm~2。Gr12MoV 基体,沉积金黄色、粘附性能好,维氏硬度高达2000—2500kg/mm~2。TiN 涂层最佳沉积条件是:TiCl_4蒸发温度313K,1:2N—H 摩尔比,1323K 沉积温度和2400Cm~3/min 气体总流量。(220)方向择优成长,随气体线速度增加或沉积温度升高而增加。
|
| 关 键 词： | 化学气相沉积 氮化钛 |
The Effects of Deposition Parameters on TiN Deposit Characters |
| |
| Chen Erbao. The Effects of Deposition Parameters on TiN Deposit Characters[J]. Journal of Anhui University of Technology, 1987, 0(4) |
| |
| Authors: | Chen Erbao |
| |
| Affiliation: | Chen Erbao (Metallurgical Engineering Department) Guo Wanhua (Chemical Engineering Depertment) |
| |
| Abstract: | |
| |
| Keywords: | Chemical vapour deposition Titanium Nitride |
| 本文献已被 CNKI 等数据库收录！ |
|
