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| ITO薄膜产业化进程概述 | |
| 作者姓名： | 李玉增 |
| 作者单位： | 北京有色金属研究总院 |
| 摘 要： | １ＩＴＯ薄膜发展概况氧化铟锡（Ｉｎｄｉｕｍ－Ｔｉｎ－Ｑｘｉｄｅ）或掺锡氧化铟（Ｔｉｎ－ｄｏｐｅｄＩｎｄｉｕｍＯｘｉｄｅ）薄膜是一种重掺杂、高简并ｎ型半导体，简称ＩＴＯ薄膜。目前，ＩＴＯ薄膜的电子密度ｎｅ可高达１０２１／ｃｍ３，电子迁移率μｅ在１５～４... |
| 关 键 词： | 薄膜 氧化铟锡 半导体 产业化 |
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