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石墨烯基红外探测器的高k栅氧集成
引用本文:周鹏,魏红强,孙清清,叶立,陈琳,吴东平,丁士进,张卫.石墨烯基红外探测器的高k栅氧集成[J].红外与毫米波学报,2012,31(2):118-121.
作者姓名:周鹏  魏红强  孙清清  叶立  陈琳  吴东平  丁士进  张卫
作者单位:复旦大学微电子研究院,集成电路与系统国家重点实验室,上海200433
基金项目:国家自然科学基金项目(面上项目,重点项目,重大项目)
摘    要:从石墨烯发现与制备出发,综述了室温下双层石墨烯或石墨烯带禁带在0~250 meV可调的特性,及其在中远红外探测器的背栅、顶栅结构中作为栅氧形成材料的应用,并介绍了目前各种先进工艺.

关 键 词:石墨烯  红外探测器  高k栅氧集成
收稿时间:2011/2/24
修稿时间:2011/6/24 0:00:00

High-k gate oxides integration of graphene based infrared detector
ZHOU Peng,WEI Hong-Qiang,SUN Hai-Tao,YE Li,CHEN Lin,WU Dong-Peng,DING Shi-Jin and ZHANG Wei.High-k gate oxides integration of graphene based infrared detector[J].Journal of Infrared and Millimeter Waves,2012,31(2):118-121.
Authors:ZHOU Peng  WEI Hong-Qiang  SUN Hai-Tao  YE Li  CHEN Lin  WU Dong-Peng  DING Shi-Jin and ZHANG Wei
Affiliation:State Key Lab of ASIC,Fudan University,Fudan University,Fudan University,Fudan University,Fudan University,Fudan University and Fudan University
Abstract:This review gives an introduction to the discovery and fabrication of the graphene, back-gated and top-gated GFET with the possible tunable band-gap of 0~250 meV at room temperature for middle and far infrared detector application, radio frequency GFET application and other advanced high k gate oxides integration processes.
Keywords:graphene  infrared detector  high-k integration
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