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旋转腐蚀法在光刻腐蚀中的应用
作者姓名:沈家树
作者单位:重庆光电技术研究所
摘    要:本文提出了一种新型的化学腐蚀方法——旋转腐蚀法。这种腐蚀方法是采用一种特殊的装置,通过旋转使腐蚀液产生离心力,迫使腐蚀液由中心向边缘处流动。这种方法可以给出一个很高的腐蚀速度,而且可以利用液体流向上的特点腐蚀出某些特定的腐蚀坑洞。现已成功地将此方法应用在自带透镜的GaAs发光管的制造中。

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