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杂志ISSN号
ULSI技术的发展趋势
引用本文:
张跃.ULSI技术的发展趋势[J].上海微电子技术和应用,1998(3):10-12.
作者姓名:
张跃
摘 要:
本文介绍了与ULSI技术相关的DRAM器件的微细化进展,对半导体制造工艺技术的发展也作了讨论,指出了,ULSI技术在今后的发展中,应注重半导体工艺的“清洁化技术”,并将改善半导体器件制造的成本费用与效益的比例减产 ULSI技术开发的依据。
关 键 词:
ULSI技术
DRAM器件
微细加工
清洁化技术
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