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压强对脉冲激光沉积ZnSe:Co薄膜性质的影响研究北大核心CSCD
作者姓名:李树锋  王丽  高东文
作者单位:1.中国人民警察大学警务装备技术学院065000;2.北京工业大学理学部物理与光电工程系100124;
基金项目:廊坊市科技计划项目(No.2021011002)。
摘    要:采用脉冲激光沉积技术在真空腔中制备了ZnSe:Co薄膜。研究了沉积压强对等离子体羽辉传播、薄膜表面形貌,微结构以及光学性质的影响。结果表明,随着压强的增大,等离子体羽辉在空间的传播距离减小,薄膜沉积方式由溅射式沉积转变为吸附式沉积,薄膜的结晶质量得到大幅提升。此外,薄膜的光学带隙随压强的增大而减小,低压条件下制备的薄膜具有较大的带隙值,这与量子限域效应有关。当压强增大到10 Pa时,得到了沿(111)方向择优生长且结晶质量优秀的微晶薄膜。

关 键 词:脉冲激光沉积  硒化锌掺钴  薄膜  压强
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