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iCMOS新工艺为精密模拟部件增加可靠性
摘 要:
美国模拟器件公司(ADI)最近发布了一种创新的半导体制造工艺iCMOS,它将高电压凌晨导体工艺与亚微米CMOS和BiCMOS工艺相结合,使客户可以在采用亚微米尺寸工艺的器件上施加高达30V电压,可选的漏极扩展允许工作电压高达50V,作为一种亚微米工艺,iCMOS工艺允许现代数字逻辑电路与高电压模拟电路集成在一起,因此与以前的高压器件相比,
关 键 词:
BiCMOS工艺
亚微米
高压器件
数字逻辑电路
模拟电路
美国模拟器件公司
半导体制造工艺
部件
集成
扩展
30V process adds robustness to precision analogue parts
Abstract:
Keywords:
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