| 热丝CVD法高速生长金刚石膜研究 |
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| 引用本文： | 赵立华 杨巧勤. 热丝CVD法高速生长金刚石膜研究[J]. 硅酸盐学报, 1996, 24(4): 476-480 |
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| 作者姓名： | 赵立华 杨巧勤 |
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| 作者单位： | 湖南大学材料测试研究中心 |
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| 基金项目： | 湖南大学科贝尔科学基金 |
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| 摘 要： | 使用热丝ＣＶＤ研究了碳源种类，氧气含量，灯丝温度，基底与灯丝间距离及异常辉光放电等对金刚石膜生长速度的影响，在此研究的基础上，优化工艺参数，使热丝ＣＶＤ法生长金刚石膜的速度提高到２０μｍ／ｈ。
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| 关 键 词： | 化学气相沉积 生长速度 金刚石膜 热丝CVD法 |
A STUDY ON THE HIGH GROWTH RATE OF DIAMOND FILM BY HOT-FILAMENT CVD |
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| Zhao Lihua,Yang Qiaoqin,Li Shaolu,Su Yuchang,Chen Benjing,Du Haiqing. A STUDY ON THE HIGH GROWTH RATE OF DIAMOND FILM BY HOT-FILAMENT CVD[J]. Journal of The Chinese Ceramic Society, 1996, 24(4): 476-480 |
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| Authors: | Zhao Lihua Yang Qiaoqin Li Shaolu Su Yuchang Chen Benjing Du Haiqing |
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| Keywords: | s:hot-filament chemical vapour deposition(HF-CVD) growth rate diamond film |
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