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| 配向膜材料与面残影的关联性研究 | |
| 引用本文： | 刘晓那,宋勇志,徐长健,周波,马国靖,陈松飞,袁剑峰,林承武,邵喜斌.配向膜材料与面残影的关联性研究[J].液晶与显示,2014,29(3):317-321. |
| 作者姓名： | 刘晓那 宋勇志 徐长健 周波 马国靖 陈松飞 袁剑峰 林承武 邵喜斌 |
| 作者单位： | 刘晓那:北京京东方显示技术有限公司 Cell工艺开发部，北京 100176 宋勇志:北京京东方显示技术有限公司 Cell工艺开发部，北京 100176 徐长健:北京京东方显示技术有限公司 Cell工艺开发部，北京 100176 周波:北京京东方显示技术有限公司 Cell工艺开发部，北京 100176 马国靖:北京京东方显示技术有限公司 Cell工艺开发部，北京 100176 陈松飞:北京京东方显示技术有限公司 Cell工艺开发部，北京 100176 袁剑峰:北京京东方显示技术有限公司 Cell工艺开发部，北京 100176 林承武:北京京东方显示技术有限公司 Cell工艺开发部，北京 100176 邵喜斌:北京京东方显示技术有限公司 Cell工艺开发部，北京 100176 |
| 摘 要： | 利用mini-cell作为评价平台,从配向膜材料自身特性角度,对配向膜材料与面残影之间的关联性进行了综合研究。一方面,配向膜材料自身优异的稳定性有助于维持电压保持率(VHR);另一方面,配向膜材料自身的低电阻率特性有助于存储电荷的释放,利于实现较低的残余电流(RDC)。而当配向膜材料的RDC和高低温间VHR变化值同时处于较低水平时,可以获得面残影水平较低的TFT-LCD模块。因此,利用mini-cell对配向膜材料进行评估,通过比较RDC以及ΔVHR数值,可以间接实现对TFT-LCD的残影结果评估,为实际生产中产品残影的改善提供了基础理论指导,具有重要的指导性作用。 |
| 关 键 词： | 配向膜 电压保持率 残余电流 残影 |
| 收稿时间： | 2013/6/8 |
Relationship between alignment film and image sticking |
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| Abstract: | |
| Keywords: | alignment materials voltage holding residual residual of direct current image sticking |
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