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Fei氏方波对Ni-P合金镀层组成及其非晶化程度的调控作用
引用本文:郭琪琪,费敬银,张嫚,韩锡正,赵利娜.Fei氏方波对Ni-P合金镀层组成及其非晶化程度的调控作用[J].材料工程,2020(6):163-169.
作者姓名:郭琪琪  费敬银  张嫚  韩锡正  赵利娜
作者单位:西北工业大学理学院
摘    要:为解决常规电沉积过程中无法获得耐蚀性优异的非晶态结构Ni-P合金镀层的问题,以快速镀Ni-P合金镀液为基础镀液,采用Fei氏方波电沉积法研究波形参数对Ni-P合金镀层非晶化过程的影响规律.采用扫描电子显微镜(SEM)表征Ni-P合金镀层的微观形貌,通过能谱分析(EDS)方法进行镀层P含量分析,用X射线衍射技术(XRD)考察镀层相结构的变化.优化的脉冲工艺参数为:平均电流密度15A/dm^2,逆向脉冲系数0.3,占空比0.6,频率1 Hz.研究表明:通过调整Fei氏方波参数,可电沉积出镀层表面完整、外观光亮、P含量最高可达17.93%(质量分数)、几乎没有金属晶体衍射峰的非晶态Ni-P合金镀层.

关 键 词:非晶化  电沉积  Fei氏方波  高P  NI-P合金
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