| 钽酸锂黑片的制备与性能研究 |
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| 引用本文： | 龙勇,于明晓,李和新,石自彬,王璐,丁雨憧,徐扬,吴兆刚. 钽酸锂黑片的制备与性能研究[J]. 压电与声光, 2019, 41(3): 340-343 |
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| 作者姓名： | 龙勇 于明晓 李和新 石自彬 王璐 丁雨憧 徐扬 吴兆刚 |
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| 作者单位： | （中国电子科技集团公司第二十六研究所，重庆 400060） |
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| 基金项目： | 总装备部材料支撑基金资助项目 |
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| 摘 要： | 为了获得高均匀性、低热释电的钽酸锂(LT)晶片,采用粉末掩埋法对42°Y-LT晶片进行了还原处理。结果表明,还原处理后的晶片电阻率为3.98×10~(10)Ω·cm;在365 nm处透过率约为36.5%,透过率均匀性为1.15;热导率为2.66 W/(m·K),热膨胀系数为2.79×10~(-6) K~(-1),满足器件使用要求。通过声表面波器件验证实验表明,晶片抗静电能力效果明显,器件成品率较高,一致性好。
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| 关 键 词： | 钽酸锂 还原处理 电阻率 均匀性 晶片 |
Preparation and Characterization of Black Lithium Tantalate Wafers |
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| LONG Yong,YU Mingxiao,LI Hexin,SHI Zibing,WANG Lu,DING Yuchong,XU Yang,WU Zhaogang. Preparation and Characterization of Black Lithium Tantalate Wafers[J]. Piezoelectrics & Acoustooptics, 2019, 41(3): 340-343 |
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| Authors: | LONG Yong YU Mingxiao LI Hexin SHI Zibing WANG Lu DING Yuchong XU Yang WU Zhaogang |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | lithium tantalate reduction treatment electrical resistivity uniformity wafer |
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