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衬底寄生电阻对高压器件ESD性能的影响
引用本文:林丽娟,喻钊,韩山明,蒋苓利,张波. 衬底寄生电阻对高压器件ESD性能的影响[J]. 微电子学, 2011, 41(5)
作者姓名:林丽娟  喻钊  韩山明  蒋苓利  张波
作者单位:电子科技大学电子薄膜与集成器件国家重点实验室,成都,610054
基金项目:国家自然科学基金资助项目(60906038)
摘    要:随着高压集成电路的广泛应用,高压器件的ESD性能越来越受广大设计者的重视。从理论上分析了衬底寄生电阻对高压LDMOS器件ESD特性的影响,采用几种结构,对上述参数进行优化,并在0.35μm BCD工艺下进行流片试验。测试结果表明,优化衬底电阻可以有效地提高器件的ESD泄放能力,最优结构的二次击穿电流由原始器件的0.75A增大到3.3A。

关 键 词:ESD  高压器件  衬底寄生电阻  

Effects of Substrate Parasitic Resistance on ESD Performance of High-Voltage Device
LIN Lijuan,YU Zhao,HAN Shanming,JIANG Lingli,ZHANG Bo. Effects of Substrate Parasitic Resistance on ESD Performance of High-Voltage Device[J]. Microelectronics, 2011, 41(5)
Authors:LIN Lijuan  YU Zhao  HAN Shanming  JIANG Lingli  ZHANG Bo
Affiliation:LIN Lijuan,YU Zhao,HAN Shanming,JIANG Lingli,ZHANG Bo(State Key Laboratory of Electronic Thin Films and Integrated Devices,Univ.of Elec.Sci.and Technol.of China,Chengdu 610054,P.R.China)
Abstract:
Keywords:ESD  High-voltage device  Substrate parasitic resistance  
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