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| RIBE-5型反应离子束刻蚀机 | |
| 作者姓名： | 成淑英 谈治信 陈绍金 戴乾宪 惠金河 江豪成 王忠 |
| 作者单位： | 航空航天部第510所七室 兰州市 730000(成淑英，谈治信，陈绍金，戴乾宪，惠金河，江豪成)，航空航天部第510所七室 兰州市 730000(王忠) |
| 摘 要： | 反应离子束刻蚀技术是近年来发展起来的一种微细加工技术，它利用反应离子束轰击团体表面时发生的溅射效应和化学反应剥离加工工作上的几何图形。具有极高的分辨率，能够控制槽深和槽壁角度，表面应力小。反应离子束刻蚀技术已有效地用于研究和制造大规模和超大规模集成电路，声表面波器件，磁泡存储器，微波器件，集成光路，超导器件，闪烁光栅等。本文叙述了一台ＲＩＢＥ－５型反应离子束刻蚀机的工作原理、结构特点、技术性能和刻蚀工艺实验结果． |
| 关 键 词： | 反应离子束 刻蚀 集成电路 固体器件 刻蚀设备 |
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