| Monte Carlo模拟有特殊几何边界试样的扫描电镜成像衬度 |
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| 引用本文： | 李会民,丁泽军.Monte Carlo模拟有特殊几何边界试样的扫描电镜成像衬度[J].电子显微学报,2003,22(6):514-515. |
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| 作者姓名： | 李会民 丁泽军 |
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| 作者单位： | 中国科技大学结构分析重点实验室,物理系,安徽,合肥,230026 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金资助项目 (No .10 0 2 5 42 0 ,2 0 0 75 0 2 6 ,90 2 0 6 0 0 9) |
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| 摘 要： | 扫描电子显微镜对于研究材料的表面形貌非常重要。低能二次电子主要反映试样的表面形貌特征，而较高能量的背散射电子既可在一定程度上反映试样的表面特征，也可表征试样的内部成分和结构差异。采用Monte Carlo计算模拟方法可以研究电子在有几何边界的试样表面附近及内部的相互作用过程，从而得到二次电子和背散射电子信号的各种分布，这将有助于理解扫描电子显微镜的成像机制和图像衬度机理。
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| 关 键 词： | MonteCarlo模拟方法 扫描电镜成像 特殊几何边界 表面形貌 低能二次电子 背散射电子 计算模拟方法 弹性散射 非弹性散射 |
Monte Carlo simulation of SEM imaging contrast for samples with special geometrical boundary |
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