| ICP－MS测定高纯氧化钬中痕量稀土杂质 |
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| 引用本文： | 王国满,崔爱端.ICP－MS测定高纯氧化钬中痕量稀土杂质[J].稀土,1996(4). |
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| 作者姓名： | 王国满 崔爱端 |
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| 作者单位： | 包钢稀土研究院 |
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| 摘 要： | 本文研究了用电感耦合等离子体质谱法（ＩＣＰ－ＭＳ）测定高纯氧化钬中１４个稀土杂质的方法。比较了５种内标元素，选择了内标的用量及试液酸度，在１％ＨＮＯ_３介质中，用Ｃｓ作为内标元素补偿基体抑制效应，与标准加入法结果一致，对于５Ｎ的氧化钬，ＲＳＤ＜１５％，回收范围９０～１１０％。
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| 关 键 词： | ICP－MS，氧化钬，稀土杂质，内标 |
Determination of Trace Rare Earth Impurities in High-Purity Holmium oxide by Inductively Coupled Plasma Mass Spectrometry |
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| Wang Guoman, Cui Aiduan.Determination of Trace Rare Earth Impurities in High-Purity Holmium oxide by Inductively Coupled Plasma Mass Spectrometry[J].Chinese Rare Earths,1996(4). |
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| Authors: | Wang Guoman Cui Aiduan |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | ICP-MS holmium oxide rare-earth impurities internal standard |
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