| 基片温度对脉冲激光沉积ZnO薄膜性质的影响 |
| |
| 引用本文： | 陈江博,王丽,苏雪琼,刘红梅,王荣平. 基片温度对脉冲激光沉积ZnO薄膜性质的影响[J]. 中国激光, 2009, 36(6). DOI: 10.3788/CJL20093606.1539 |
| |
| 作者姓名： | 陈江博 王丽 苏雪琼 刘红梅 王荣平 |
| |
| 作者单位： | 1. 北京工业大学应用数理学院,北京,100124
2. 澳大利亚国立大学激光物理中心,澳大利亚,ACT0200 |
| |
| 摘 要： | 本文基于脉冲激光沉积(PLD)方法,利用光谱物理GCR-170型脉冲激光器Nd:YAG的三次谐波,实验上完成了在Al2O3(0001)基片上生长了ZnO薄膜.利用原子力显微镜(AFM)、光致发光(PL)谱和光学透射谱对不同基片温度下沉积的ZnO薄膜的表面形貌和光学特性进行研究.结果表明,沉积时的基片温度对ZnO薄膜的结构和特性有显著影响.在基片温度为500℃时沉积的ZnO薄膜结构致密均匀,并表现出很强的紫外发射.通过紫外一可见透射光谱的测量,讨论了沉积时的基片温度对ZnO薄膜光学透射率的影响.
|
| 关 键 词： | 材料 ZnO薄膜 脉冲激光沉积 表面形貌 光致发光 透射光谱 |
Affect of ZnO Thin Film of Pulsed Laser Deposition by Substrate Temperatures |
| |
| Chen Jiangbo,Wang Li,Su Xueqiong,Liu Hongmei,Wang Rongping. Affect of ZnO Thin Film of Pulsed Laser Deposition by Substrate Temperatures[J]. Chinese Journal of Lasers, 2009, 36(6). DOI: 10.3788/CJL20093606.1539 |
| |
| Authors: | Chen Jiangbo Wang Li Su Xueqiong Liu Hongmei Wang Rongping |
| |
| Abstract: | |
| |
| Keywords: | |
| 本文献已被 万方数据 等数据库收录！ |
|
