| 玻璃基底上NiTi薄膜制备及特性 |
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| 引用本文： | 邱平善 黄渭馨. 玻璃基底上NiTi薄膜制备及特性[J]. 哈尔滨理工大学学报, 1997, 2(5): 24-27,31 |
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| 作者姓名： | 邱平善 黄渭馨 |
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| 作者单位： | Qiu Pingshan，Huang Weixin，Hong Chengzhu，Ding Jianhui，Liu Xiaochi |
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| 摘 要： | 研究了真空蒸镀制备的玻璃基底上的ＮｉＴｉ薄膜的特性，并进行了成分分析、Ｘ射线衍射分析、电阻经时变化及电阻－温度特性测定。结果表明：真空蒸镀所得的ＮｉＴｉ膜中Ｔｉ的物质的量分数比蒸发源镀材降低约０．０７；基底温度低于３５０℃时，ＮｉＴｉ膜的电阻－温度曲线呈线性变化；采用镀后热处理，可使ＮｉＴｉ膜晶化，且出现Ｒ相变。同时，ＮｉＴｉ膜相变温度、相变量，电阻经时变化特性与基底温度及热处理工艺有关。
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| 关 键 词： | 薄膜 镍钛合金 真空蒸镀 形状记忆合金 制备 |
Study of Preparation and Characteristics of NiTi Thin Films Deposited onto Glass Substrates |
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| Qiu Pingshan,Huang Weixin,Hong Chengzhu,Ding Jianhui,Liu Xiaochi. Study of Preparation and Characteristics of NiTi Thin Films Deposited onto Glass Substrates[J]. Journal of Harbin University of Science and Technology, 1997, 2(5): 24-27,31 |
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| Authors: | Qiu Pingshan Huang Weixin Hong Chengzhu Ding Jianhui Liu Xiaochi |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | NiTi thin film temperature of substrate subsequent-treatment characteristics of NiTi thin film |
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