封装中的滚镀工艺研究 |
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引用本文: | 宁洪龙,黄福祥,等.封装中的滚镀工艺研究[J].湘潭矿业学院学报,2002,17(4):39-41. |
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作者姓名: | 宁洪龙 黄福祥 |
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作者单位: | 清华大学材料系,北京100084 |
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摘 要: | 针对封装中的陶瓷外壳经常出现的电镀镀层不稳定的现象,通过滚镀工艺的阴极导通方式和面积加以改进,以改善电镀时镀件表面电流分布的均匀性,从而提高了滚镀的镀层质量,通过对比,发现影响镀层的关键性因素是与镀件连接的阴极,改进工艺后镀层的质量有明显的提高。
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关 键 词: | 封装 滚镀工艺 陶瓷外壳 电镀 技术改进 陶瓷金属化工艺 |
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