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硅/玻璃紫外固化中间层键合
引用本文:程文进,汤自荣,廖广兰,史铁林,林晓辉,彭平.硅/玻璃紫外固化中间层键合[J].半导体学报,2008,29(1).
作者姓名:程文进  汤自荣  廖广兰  史铁林  林晓辉  彭平
作者单位:华中科技大学机械科学与工程学院,武汉,430074;武汉光电国家实验室,武汉,430074
基金项目:国家重点基础研究发展计划(973计划),国家自然科学基金
摘    要:利用玻璃的透光特性和紫外固化的成熟技术,研究了一种使用紫外固化胶作为中间层的玻璃/硅室温键合工艺.通过选择一定波段的紫外固化胶,旋涂紫外胶后使用365nm光刻机作为紫外光源控制紫外固化,从而实现了硅/玻璃的中间层键合.分析测试结果表明,紫外固化辅助的中间层键合可以成功应用于硅/玻璃键合,中间层厚5~6μm,键合强度达到26MPa.该工艺只需室温条件,简单高效,成本低廉,无需额外的压力或电场,对于硅/玻璃低温键合封装具有潜在的应用价值.

关 键 词:室温键合  中间层  紫外固化

Intermediate Layer Bonding for Silicon and Glass Based on UV Adhesive
Cheng Wenjin,Tang Zirong,Liao Guanglan,Shi Tielin,Lin Xiaohui,Peng Ping.Intermediate Layer Bonding for Silicon and Glass Based on UV Adhesive[J].Chinese Journal of Semiconductors,2008,29(1).
Authors:Cheng Wenjin  Tang Zirong  Liao Guanglan  Shi Tielin  Lin Xiaohui  Peng Ping
Abstract:
Keywords:
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