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| 用于GaAs MMIC的移相曝光技术 | |
| 引用本文： | 孙再吉.用于GaAs MMIC的移相曝光技术[J].固体电子学研究与进展,1994(1). |
| 作者姓名： | 孙再吉 |
| 摘 要： | 用于ＧａＡｓ ＭＭＩＣ的移相曝光技术据日本《ＳｅｍｉｃｏｎｄｕｃｔｏｒＷｏｒｌｄ）１９９３年第１２期报道，三菱电机公司开发用于ＧａＡｓＭＭＩＣ栅的移相曝光技术，获得０．３５Ｐｍ电极图形，可进行规模生产。在移动通信领域，因高频率、高输出功率的需要，Ｇａ... |
| 本文献已被 CNKI 等数据库收录！ | |
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