激光去除光纤涂敷层的实验研究 |
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作者姓名: | 彭仁翔 周次明 |
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作者单位: | 武汉理工大学光纤传感技术研究中心,湖北,武汉,430070;武汉理工大学光纤传感技术研究中心,湖北,武汉,430070 |
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摘 要: | 采用波长为10. 6μm的TEA CO2 红外激光和波长为248nm的KrF准分子激光去除SMF28光纤涂敷层,研究了激光脉冲能量密度和脉冲数与涂敷层去除效果之间的关系。实验
证明,涂敷层去除厚度随激光脉冲能量密度的增加呈对数增长,随红外激光脉冲数的增加呈对数变化,随紫外激光脉冲数的增加呈线性变化,且去除效果在红外激光8.15J / cm2、20个脉冲和紫外激光452mJ / cm2、800个脉冲下达到最佳。
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关 键 词: | 激光剥离 激光去除 激光蒸发 光纤加工 |
文章编号: | 1001-5078(2006)01-0035-04 |
收稿时间: | 2005-05-21 |
修稿时间: | 2005-05-21 |
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