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TbDyFe/FeNi多层膜的磁致伸缩性能
引用本文:吕凤军,斯永敏.TbDyFe/FeNi多层膜的磁致伸缩性能[J].材料科学与工程学报,2007,25(4):537-540.
作者姓名:吕凤军  斯永敏
作者单位:北京航空工程技术研究中心,北京,100076;国防科技大学航天与材料工程学院,湖南,长沙,410073;国防科技大学航天与材料工程学院,湖南,长沙,410073
摘    要:本文采用磁控溅射工艺制备了TbDyFe/FeNi多层膜,研究了TbDyFe/FeNi多层膜的磁致伸缩性能及其影响因素.研究表明,随着FeNi膜层以及TbDyFe膜层厚度的减少,多层膜磁致伸缩性能增强,线性变化能力增强;通过真空退火、外加磁场镀膜和外加应力镀膜能够有效地提高TbDyFe/FeNi多层膜的磁致伸缩性能.

关 键 词:磁控溅射  TbDyFe/FeNi多层膜  真空退火
文章编号:1673-2812(2007)04-0537-04
修稿时间:2006年10月8日

Magnetostrictive Properties of TbDyFe/FeNi Multilayers
LV Feng-jun,SI Yong-min.Magnetostrictive Properties of TbDyFe/FeNi Multilayers[J].Journal of Materials Science and Engineering,2007,25(4):537-540.
Authors:LV Feng-jun  SI Yong-min
Abstract:The TbDyFe/FeNi multilayers are prepared by magneton sputtering,and which magnetostrictive properties are investigated.The results show that the magnetostrictive properties are boosted when the thickness of FeNi film is reduced,and so is TbDyFe film.Its properties can also be improved by vacuum-annealing,magnetic field and stress applied in course of preparing multilayers.
Keywords:magnetron sputtering  TbDyFe/FeNi multilayers  vacuum-annealing
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