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IMEC将在2010年上半年预投产EUV光刻机
摘 要:
欧洲研发机构IMEC首席运营官Luc Van den Hove表示,IMEC将在2010年上半年制预投产EUV(极紫外)光刻设备。按照目前的进程,该设备将于2012年在IMEC的300mm生产线上投产。尽管对于EUV在商业制造中的合理性尚存疑问,然而IMEC认为光学光刻无法满足22nm制程。因此,EUV是唯一的选择。2006年8月IMEC从ASML处获得一台原型设备,并在这台原型设备上开发EUV设备。
关 键 词:
EUV
投产
光刻机
光刻设备
研发机构
光学光刻
Van
极紫外
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