| NiTi形状记忆合金表面改性绝缘膜的研究 |
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| 引用本文： | 陈斌,陈非霞,崔立山,杨大智,朱英臣. NiTi形状记忆合金表面改性绝缘膜的研究[J]. 材料研究学报, 1994, 8(4): 319-321 |
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| 作者姓名： | 陈斌 陈非霞 崔立山 杨大智 朱英臣 |
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| 作者单位： | 大连理工大学三束材料改性国家重点联合实验室，大连大学 |
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| 摘 要： | 用三级反应溅射离子镀法在ＮｉＴｉ形状记忆合金基片上镀制ＴａＮ膜，并在６００℃干燥空气中氧化１ｈ，形成氧化膜。研究了氧化后的ＴａＮ膜的性能及其成分和结构，结果表明：膜完全氧化成ＴａＯ．Ｔａ，Ｎ，Ｏ等在膜中分布比较均匀，它的韧性良好，与基体结合强度高，绝缘性良好；膜－基体间约有４０ｎｍ的离子束混合区。
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| 关 键 词： | 形状记忆合金 表面改性 镍钛合金 |
| 收稿时间： | 1994-08-25 |
| 修稿时间： | 1994-08-25 |
STUDY ON SURFACE ISOLATION FILM OF NiTi SHAPE MEMORY ALLOY |
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| CHEN Bin,CHEN Feixia,CUI Lishan,YANG Dazhi ZHU Yingchen. STUDY ON SURFACE ISOLATION FILM OF NiTi SHAPE MEMORY ALLOY[J]. Chinese Journal of Materials Research, 1994, 8(4): 319-321 |
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| Authors: | CHEN Bin CHEN Feixia CUI Lishan YANG Dazhi ZHU Yingchen |
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| Affiliation: | CHEN Bin; CHEN Feixia; CUI Lishan; YANG Dazhi (Dalian University of Technology)ZHU Yingchen (Dalian University) |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | NiTi shape memory alloy surface modification isolation film |
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