| 弛豫对低场下的薄膜磁致伸缩性能影响模型 |
| |
| 引用本文： | 谢海涛,斯永敏,马青松,刘希从. 弛豫对低场下的薄膜磁致伸缩性能影响模型[J]. 材料科学与工程学报, 2002, 20(3): 396-398,409 |
| |
| 作者姓名： | 谢海涛 斯永敏 马青松 刘希从 |
| |
| 作者单位： | 国防科技大学,材料与应用化学系,湖南,长沙,410073 |
| |
| 基金项目： | 国家自然科学基金资助项目 ( 599710 64) |
| |
| 摘 要： | 基于非晶合金结构微缺陷的Egami模型 ,本文提出了一个弛豫影响低场下的磁致伸缩性能模型。在此模型中 ,低磁场下的磁化和磁致伸缩乃是 180°磁畴旋转的结果 ,而 180°磁畴的壁移磁化过程将被非晶的结构微缺陷所钉扎 ,而在较高磁场情况下 ,不产生磁致伸缩的壁移磁化过程被启动。退火过程将发生非晶相的结构弛豫 ,使非晶相内由结构缺陷产生的应力降低 ,从而导致低磁场下的磁致伸缩得以提高。此模型可以很好地解释各工艺状态的Tb0 .2 7Dy0 .73 Fe2 薄膜低场下的磁致伸缩行为
|
| 关 键 词： | 超磁致伸缩 薄膜 非晶态 弛豫 |
| 文章编号： | 1004-793X(2002)03-0396-04 |
| 修稿时间： | 2001-10-13 |
A Model of Relax Effect for Magnetostriction of Film in Low Field |
| |
| XIE Hai tao,SI Yong ming,LIU Xi cong,MA Qing song. A Model of Relax Effect for Magnetostriction of Film in Low Field[J]. Journal of Materials Science and Engineering, 2002, 20(3): 396-398,409 |
| |
| Authors: | XIE Hai tao SI Yong ming LIU Xi cong MA Qing song |
| |
| Abstract: | |
| |
| Keywords: | giant magnetostriction thin films amorphous relax |
| 本文献已被 CNKI 万方数据 等数据库收录！ |
|
