模板法合成g-C_3N_4光催化降解甲基橙研究 |
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引用本文: | 代宏哲,高续春,张俊霞,樊君,刘恩周.模板法合成g-C_3N_4光催化降解甲基橙研究[J].当代化工,2018(9). |
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作者姓名: | 代宏哲 高续春 张俊霞 樊君 刘恩周 |
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作者单位: | 榆林学院化学与化工学院;榆林学院能源工程学院;西北大学化工学院 |
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摘 要: | g-C_3N_4具有2.7 eV的禁带宽度、光能利用率高、对热和化学稳定性好、原料廉价易得,合成简单可靠等特点而被认为是较好的光催化剂之一,以g-C_3N_4为催化剂利用太阳能降解污染物对解决环境问题具有重要意义。本文以SBA-15为模板通过热分解制备g-C_3N_4,并采用X射线衍射分析、X射线光电子能谱、紫外-可见漫反射光谱、荧光光谱等对其进行了表征,并选用偶氮染料甲基橙为目标污染物来衡量g-C_3N_4降解有机物污染物的能力。结果发现,模板法能成功制备g-C_3N_4,使用经过4h光催化反应后,MO降解率可达到72%,说明该g-C_3N_4具有较强的降解有机物污染物能力,具有潜在的应用价值。
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