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一种新型低压功率MOSFET结构分析
引用本文:姚丰,何杞鑫,方邵华. 一种新型低压功率MOSFET结构分析[J]. 半导体技术, 2005, 30(11): 53-56
作者姓名:姚丰  何杞鑫  方邵华
作者单位:浙江大学信息与电子工程系微电子技术与系统设计研究所,杭州,310027;浙江大学信息与电子工程系微电子技术与系统设计研究所,杭州,310027;浙江大学信息与电子工程系微电子技术与系统设计研究所,杭州,310027
基金项目:浙江省宁波市科技攻关项目
摘    要:介绍了一种新型的低压功率MOSFET结构--Trench MOSFET.将其与常规VDMOS通过在结构参数、电性能参数上的比较和分析,最终肯定了Trench MOSFET结构的优点.

关 键 词:垂直双扩散型金属氧化物半导体  沟槽金属氧化物半导体场效应晶体管  器件仿真  导通电阻
文章编号:1003-353X(2005)11-0053-04
收稿时间:2005-01-14
修稿时间:2005-01-14

Analysis for a New Low-Voltage Power MOSFET Structure
YAO Feng,HE Qi-xin,FANG Shao-hua. Analysis for a New Low-Voltage Power MOSFET Structure[J]. Semiconductor Technology, 2005, 30(11): 53-56
Authors:YAO Feng  HE Qi-xin  FANG Shao-hua
Abstract:A new power MOSFET structure: Trench MOSFET is presented. Analysis and comparisons are made between conventional VDMOS and Trench MOSFET. It shows that the new device has a superior performance.
Keywords:VDMOS  trench MOSFET  device simulation  on-resistance  
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