| 基于响应面法的原子层沉积高阻隔膜研究 |
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| 引用本文： | 赵丽丽,林晶,于贵文,董静.基于响应面法的原子层沉积高阻隔膜研究[J].包装工程,2022,43(23):167-173. |
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| 作者姓名： | 赵丽丽 林晶 于贵文 董静 |
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| 作者单位： | 哈尔滨商业大学 包装科学与工程技术实验室，哈尔滨 150028 |
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| 基金项目： | 哈尔滨商业大学青年创新人才计划(18XN032);黑龙江高校科技成果(TSTAU–R2018009) |
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| 摘 要： | 目的 研究分析等离子辅助原子层沉积技术(ALD)技术在PET表面上沉积超薄Al2O3阻隔层的工艺优化。方法 采用单因素结合响应面设计试验法，对Al2O3/PET薄膜的沉积速率(GPC)进行优化，通过AFM分析得到薄膜的生长模式和表面粗糙度，最后用水蒸气透过率表征薄膜的阻隔性能。结果 最大GPC的沉积参数:TMA脉冲时间为0.17 s、吹扫时间为11 s、O2的脉冲时间为0.35 s、吹扫时间为10 s、沉积速率为0.215 nm/cycle;薄膜以层状生长模式生长，表面粗糙度均方根(RMS)为0.58 nm;沉积500个循环后薄膜的水透过率从7.456 g?d/m2降低到0.319 g?d/m2。结论 通过响应面法优化了ALD制备工艺参数，Al2O3在PET表面沉积100 nm左右时，水蒸气阻隔性提高了25倍。
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| 关 键 词： | 原子层沉积 Box–Behnken响应面法 Al2O3/PET高阻隔膜 |
Atomic Layer Deposition of High Barrier Films Based on Response Surface Method |
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| ZHAO Li-li,LIN Jing,YU Gui-wen,DONG Jing.Atomic Layer Deposition of High Barrier Films Based on Response Surface Method[J].Packaging Engineering,2022,43(23):167-173. |
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| Authors: | ZHAO Li-li LIN Jing YU Gui-wen DONG Jing |
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| Affiliation: | Packaging Science and Printing Technology Engineering Laboratory, Harbin University of Commerce, Harbin 150028, China |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | atomic layer deposition Box-Behnken response surface method Al2O3/PET high barrier film |
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